美國(guó)Futurrex顯影液

簡(jiǎn)要描述：Futurrex 成立于1985年，是美國(guó)光刻膠及輔助化學(xué)品制造商。產(chǎn)品以技術(shù)著稱，從2000年至今年均增長(zhǎng)率為33%。主要客戶有：Ti、半導(dǎo)體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長(zhǎng)期與Intel實(shí)驗(yàn)室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進(jìn)美國(guó)各大學(xué)半導(dǎo)體教程，是各大研究機(jī)構(gòu)產(chǎn)品。

產(chǎn)品型號(hào)：RD3、RD6
廠商性質(zhì)：代理商
更新時(shí)間：2024-05-17
訪問(wèn) 量：2261

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光刻膠

SU-8膠顯影液 Futurrex光刻膠納米光刻壓印膠查看全部產(chǎn)品

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詳細(xì)介紹

Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：

1、Futurrex光刻膠黏附性好，無(wú)需使用增粘劑（HMDS）

2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年

3、150度烘烤，縮短了烘烤時(shí)間

4、單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚

5、顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘

品牌	產(chǎn)地	型號(hào)	特性	應(yīng)用	對(duì)生產(chǎn)力的影響
Futurrex	美國(guó)	RD3	堿性水溶液	光膠圖案顯影 Futurrex臨時(shí)粘層、保護(hù)層和平坦化層的去除	一種顯影液可同時(shí)應(yīng)用于正膠和負(fù)膠在去除PC3系列平坦化層時(shí)作為去除劑
		RD6
Micro Resist	德國(guó)	ma~D332S	避免接觸酸和氧化劑	用于半導(dǎo)體芯片或微納結(jié)構(gòu)制作	用于光刻膠的顯影

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