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MC方案|光刻膠旋涂曲線(xiàn)如何獲得?

更新時(shí)間:2020-09-22      點(diǎn)擊次數(shù):2321

旋涂曲線(xiàn)(spin curve)是光刻膠重要參數(shù)之一,他給我們選擇光刻膠提供了重要的指導(dǎo)意義。所以我們來(lái)介紹一下什么是旋涂曲線(xiàn)?怎樣使用旋涂曲線(xiàn)?如何獲得旋涂曲線(xiàn)?

 

什么是光刻膠旋涂曲線(xiàn)?

顧名思義,光刻膠旋涂曲線(xiàn)就是在旋涂工藝下,光刻膠的厚度與勻膠轉(zhuǎn)速的關(guān)系曲線(xiàn)。一般來(lái)說(shuō),某一固定固含量的光刻膠在相同的勻膠條件下都會(huì)有一個(gè)相對(duì)穩(wěn)定的膜厚值。這個(gè)厚度隨著勻膠轉(zhuǎn)速的提高而降低。下圖是一個(gè)典型的光刻膠旋涂曲線(xiàn):

 

影響光刻膠旋涂曲線(xiàn)的因素主要有:

光刻膠種類(lèi)和固含量:一般來(lái)說(shuō),固含量越大,相同轉(zhuǎn)速下的厚度越厚,可以通過(guò)稀釋獲得較薄的光刻膠膠膜。

 

勻膠設(shè)備:市面常見(jiàn)的勻膠機(jī)在涂膠時(shí)也會(huì)有一定的差異,常見(jiàn)到的開(kāi)放式勻膠機(jī)和加蓋共旋勻膠機(jī),加蓋共旋的勻膠機(jī)在成膜質(zhì)量上優(yōu)于開(kāi)放式勻膠機(jī),但相同的勻膠條件下,其膜厚往往只有開(kāi)放式膜厚的70%左右。

 

環(huán)境:如空氣濕度,一般來(lái)說(shuō),光刻膠的厚度隨空氣濕度的增加而減小。

 

怎樣使用旋涂曲線(xiàn)?

綜上所述,旋涂曲線(xiàn)是關(guān)聯(lián)我們旋涂工藝和獲得膠膜的重要參數(shù)。那么我們?nèi)绾问褂眯壳€(xiàn)就很關(guān)鍵。

 

我們確定好我們所需要的光刻膠種類(lèi),往往在這個(gè)光刻膠種類(lèi)下會(huì)有若干個(gè)光刻膠的子型號(hào),部分廠(chǎng)家會(huì)將這些子型號(hào)的旋涂曲線(xiàn)繪制在一張表格上,方便我們對(duì)比。如下圖所示:

 

其次,圖中橫坐標(biāo)雖然是從幾百到8000rpm甚至是12000rpm的轉(zhuǎn)速,但是我們通常都不會(huì)用到過(guò)低或者過(guò)高的轉(zhuǎn)速,因?yàn)檫^(guò)低的轉(zhuǎn)速不容易獲得高質(zhì)量薄膜,過(guò)高的轉(zhuǎn)速可能在設(shè)備上有限制,在薄膜厚度變化上也不明顯。一般根據(jù)膠種類(lèi)來(lái)區(qū)別,對(duì)于薄膠(1um以下),我們可以以4000rpm為參考點(diǎn),對(duì)于厚膠(5um以上)以1000rpm為參考點(diǎn)。因?yàn)檫@兩個(gè)參考點(diǎn)是我們常用的勻膠轉(zhuǎn)速。

 

后,結(jié)合自己所需的膠厚值和4000rpm下的勻膠曲線(xiàn)值,找一個(gè)接近的型號(hào)選擇就好。

 

當(dāng)然,如果我們手頭上有一款膠的厚度略大,也可以通過(guò)稀釋的方法獲得薄膠,避免購(gòu)買(mǎi)新的光刻膠,這個(gè)時(shí)候,我們可以通過(guò)不同型號(hào)膠的旋涂曲線(xiàn)值以及型號(hào)對(duì)應(yīng)的固含量計(jì)算出稀釋比來(lái)實(shí)現(xiàn)。當(dāng)然,嚴(yán)格意義來(lái)說(shuō),我們并不推薦自己稀釋?zhuān)驗(yàn)檫@個(gè)過(guò)程很容易引入污染和氣泡,影響光刻質(zhì)量。

 

怎樣獲得旋涂曲線(xiàn)?

上述介紹的是廠(chǎng)商提供的旋涂曲線(xiàn)我們?cè)诠饪棠z選型和使用中怎么利用,我們也介紹了影響一款膠的旋涂曲線(xiàn)的因素。因此,當(dāng)我們購(gòu)買(mǎi)了一款新的光刻膠產(chǎn)品后,由于我們的實(shí)驗(yàn)室條件和環(huán)境的差異性,嚴(yán)格意義上,我們需要針對(duì)這款膠做一個(gè)旋涂曲線(xiàn),來(lái)確定真實(shí)的涂膠條件。那么如何獲得旋涂曲線(xiàn)?

 

下面介紹,我們需要?jiǎng)蚰z設(shè)備,也就是我們實(shí)驗(yàn)所用的勻膠機(jī),下圖是的產(chǎn)品圖。

 

 

其次,我們需要膜后表征設(shè)備,光學(xué)膜厚儀(下圖所示)的優(yōu)勢(shì)是無(wú)損測(cè)量(相對(duì)來(lái)說(shuō),需要注意光源的波長(zhǎng)有可能使光刻膠曝光),但是需要知道薄膜的折射率(特定波長(zhǎng)下)和消光系數(shù),測(cè)量過(guò)程非常簡(jiǎn)單。但是需要注意,光刻膠產(chǎn)品資料上往往并不直接提供折射率參數(shù),而是提供柯西系數(shù),我們需要通過(guò)柯西公式帶入波長(zhǎng)計(jì)算得到折射率。

 

 

后,通過(guò)測(cè)量1000、2000、30000、4000、5000、6000……下的膜后值即可繪制出真實(shí)的旋涂曲線(xiàn)。獲得真實(shí)的旋涂曲線(xiàn)是我們后續(xù)做光刻膠劑量?jī)?yōu)化、lift-off工藝以及干法刻蝕工藝的重要指導(dǎo)參數(shù)。

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