涂膠顯影機具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻,顯影和清洗應用的要求重復進行,如沖洗（通常是去離子水或溶劑）,然后干燥（通常是氮氣）等后的處理步驟。采用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內調節(jié)。還有可選擇的動態(tài)線性或徑向滴膠的特性。

　　涂膠顯影機加熱位置都是貼在熱板上，透過熱傳導的方式對晶圓進行加熱，每個熱板同時只有一個加熱溫度。若遇到溫度改變也即晶圓需要經(jīng)過不同的工藝溫度的處理時，就會需要時間來做溫度的切換，如果遇到溫度落差比較大的時候，升降溫的過程中晶圓將會停止傳送，這會嚴重的影響到生產(chǎn)速率。

　　晶圓在加熱時放置在所述頂針的頂部，所述熱板提供加熱源，從所述熱板的表面往上的空間范圍內在抽氣氣流的作用下溫度逐漸降低，通過所述步進馬達控制所述頂針頂部的位置來設定所述晶圓所處的空間位置并進而設置所述晶圓的工藝溫度。

　　進一步的改進是，所述頂針的根數(shù)為至少3根。

　　進一步的改進是，所述晶圓的工藝溫度包括多個。

　　進一步的改進是，所述熱板的表面的溫度高，所述晶圓的工藝溫度小于等于所述熱板的表面溫度。

　　進一步的改進是，所述晶圓位于所述熱板表面時，所述熱板通過熱傳導方式、對流和輻射的方式對所述晶圓加熱。

　　涂膠顯影機的日常維護您知道有哪些嗎？每天機器工作完畢后請安排大約在15分鐘內對機器進行清洗。

　　1、切斷電源和水源，使用清洗瓶灌滿干凈的清水，噴口對準液面以上的輥軸和齒輪輕輕噴些清水以沖洗附著在部件上的藥液結晶。

　　2、使用干凈的毛巾擦拭輥軸，藥槽上蓋內面，前輸版臺以及機身外殼。

　　3、使用清水沖洗膠輥，去除殘留在膠輥上的膠水以免膠水粘結影響機器的下次工作。

　　4、排干水槽內的水，防止水體中的微生物導致水質變差。

　　注意∶絕不能使用粗糙堅硬的器具清洗膠輥，以防劃傷或損壞膠輥表面。